在半导体产业的"芯片战争"中，光刻胶作为光刻工艺的核心耗材，始终是制约先进制程突破的关键材料。当全球7nm以下制程产能以每年16%的速度扩张时，一场由技术突破与资本共振驱动的产业变革正在中国上演。这场变革不仅关乎万亿级半导体市场的格局重构，更预示着中国在高端材

北大 纳米 光刻胶 光刻胶国产化 国产化破局 2025-10-26 15:33  2